Če vdihnete 3-amino-5-merkapto-1,2, 4-triazol, prosimo, da bolnika premaknete na svež zrak; v primeru stika s kožo sleči onesnažena oblačila in kožo temeljito umiti z milnico in vodo. Če se počutite neprijetno, poiščite zdravniško pomoč; če imate očiten stik z očmi, veke ločite, sperite s tekočo vodo ali fiziološko raztopino in takoj poiščite zdravniško pomoč; če ga zaužijete, takoj grgrajte, ne povzročajte bruhanja in takoj poiščite zdravniško pomoč.

Uporablja se za pripravo raztopine za čiščenje fotorezista

V običajnem postopku izdelave LED in polprevodnikov se na površini nekaterih materialov oblikuje maska ​​fotoresista, vzorec pa se po izpostavitvi prenese. Po pridobitvi zahtevanega vzorca je treba preostali fotorezist sleči pred naslednjim postopkom. V tem postopku je treba popolnoma odstraniti nepotreben fotorezist, ne da bi razjedel podlago. Trenutno raztopino za čiščenje fotorezista sestavljajo v glavnem polarno organsko topilo, močna alkalija in / ali voda itd. .

Razvita je bila nova vrsta čistilne raztopine za fotoreziste, ki je nevodni detergent z nizkim jedkanjem. Vsebuje: alkoholni amin, 3-amino-5-merkapto-1,2,4-triazol in sotapilo. Tovrstno raztopino za čiščenje fotorezista lahko uporabimo za odstranjevanje fotoodpornosti v LED in polprevodnikih. Hkrati nima napadov na podlago, kot je kovinski aluminij. Še več, sistem ima močno vodoodpornost in širi okno delovanja. Ima dobre možnosti za uporabo na področju čiščenja LED in polprevodniških čipov.